1.1 Esta práctica recomienda procedimientos para tomar muestras de varillas de silicio policristalino y hacer crecer monocristales a partir de estas muestras mediante la técnica de zona de flotación. Los lingotes monocristalinos resultantes se analizan mediante métodos espectrofotométricos para determinar las trazas de impurezas en el polisilicio. Estas trazas de impurezas son impurezas aceptoras (generalmente boro o aluminio, o ambos), donantes (generalmente fósforo o arsénico, o ambos) y de carbono. 1.2 El rango útil de concentración de impurezas cubierto por esta práctica es de 0,002 a 100 partes/millón atómico (ppba) para impurezas aceptoras y donantes, y de 0,05 a 5 partes/millón atómico (ppma) para impurezas de carbono. Estas impurezas se analizan en las muestras de lingotes mediante espectroscopia infrarroja o de fotoluminiscencia. 1.3 Esta práctica es aplicable sólo a la evaluación de lingotes de polisilicio cultivados mediante un método que utiliza una varilla (filamento) de silicio delgada sobre la cual se deposita silicio policristalino. 1.4 Esta práctica utiliza ácido caliente para grabar la superficie de la varilla de polisilicio. El grabador es potencialmente dañino y debe manipularse en una campana extractora de gases de escape ácido con sumo cuidado en todo momento. Las soluciones de ácido fluorhídrico son particularmente peligrosas y no deben ser utilizadas por nadie que no esté familiarizado con las medidas preventivas específicas y los tratamientos de primeros auxilios que se proporcionan en la Hoja de datos de seguridad del material correspondiente. 1.5 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.
ASTM F1723-02 Documento de referencia
ASTM C28 Especificación estándar para revoques de yeso*, 1980-10-26 Actualizar
ASTM C35 Especificación estándar para agregados inorgánicos para uso en yeso*, 1995-10-26 Actualizar
ASTM D5127 Guía estándar para agua ultrapura utilizada en la industria electrónica y de semiconductores*, 1999-10-26 Actualizar
ISO 14644-1 Salas blancas y ambientes controlados asociados - Parte 1: Clasificación de la limpieza del aire por concentración de partículas*, 2015-12-01 Actualizar
1996ASTM F1723-96 Práctica estándar para la evaluación de varillas de silicio policristalino mediante espectroscopía y crecimiento de cristales de zona flotante