ASTM F26-87a(1999) normas y especificaciones

Alcance: 1.1 Estos métodos de prueba 2 cubren técnicas para determinar la orientación cristalográfica de una superficie que es aproximadamente paralela a un plano atómico de bajo índice en monocristales utilizados principalmente para dispositivos semiconductores. 1.2 Se cubren dos tipos de métodos de prueba a continuación: 1.2.1 Método de prueba A, Orientación por difracción de rayos X. Este método de prueba puede usarse para la orientación de todos los monocristales semiconductores. 1.2.2 Método de prueba B, Orientación óptica. En la actualidad, este método de prueba tiene una aplicación limitada a semiconductores elementales. 1.3 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso. Las declaraciones de peligro específicas se dan en la Sección 6.

ASTM F26-87a(1999) Documento de referencia

ASTM E177 Práctica estándar para el uso de los términos precisión y sesgo en los métodos de prueba ASTM*， 1990-10-26 Actualizar
ASTM E82 Método de prueba estándar para determinar la orientación de un cristal metálico*， 1991-10-26 Actualizar