1.1 Esta guía cubre las recomendaciones para la pureza del agua adecuada para su uso en la industria electrónica y microelectrónica para fines tales como el lavado y enjuague de componentes semiconductores en operaciones de limpieza y grabado, generación de vapor para oxidación de superficies de silicio, preparación de fotomáscaras, material luminiscente. deposición y aplicaciones similares relacionadas con el desarrollo y fabricación de dispositivos de estado sólido, películas delgadas, láseres de comunicación, diodos emisores de luz, fotodetectores, circuitos impresos, memorias, tubos de vacío o electrolíticos. 1.2 Los valores indicados en unidades SI deben considerarse estándar. Las unidades pulgada-libra que aparecen entre paréntesis son sólo para información. 1.3 Esta norma no pretende abordar los problemas de seguridad asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.
ASTM D5127-99 Historia
2018ASTM D5127-13(2018) Guía estándar para agua ultrapura utilizada en las industrias electrónica y de semiconductores
2013ASTM D5127-13 Guía estándar para agua ultrapura utilizada en las industrias electrónica y de semiconductores
2012ASTM D5127-12 Guía estándar para agua ultrapura utilizada en las industrias electrónica y de semiconductores
2007ASTM D5127-07 Guía estándar para agua ultrapura utilizada en las industrias electrónica y de semiconductores
1999ASTM D5127-99 Guía estándar para agua ultrapura utilizada en la industria electrónica y de semiconductores