Esta norma es aplicable a la detección de los elementos electroactivos boro (B), fósforo (P), arsénico (As), aluminio (Al), antimonio (Sb) y galio (Ga) en productos individuales de silicio. El rango de concentración de cada impureza o dopante de elemento electroactivo en el silicio al que se aplica esta norma es (0,01 × 10 ~ 5,0 × 1 O) a. La concentración de cada impureza o dopante se puede obtener de la ley de Beer y se proporciona un factor de calibración para cada elemento.
GB/T 24581-2009 Documento de referencia
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