GB/T 24581-2009
Método de prueba para análisis FT-IR a baja temperatura de silicio monocristalino para impurezas Ⅲ-Ⅴ (Versión en inglés)

Estándar No.
GB/T 24581-2009
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
2009
Organización
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Estado
 2022-10
Remplazado por
GB/T 24581-2022
Ultima versión
GB/T 24581-2022
Alcance
Esta norma es aplicable a la detección de los elementos electroactivos boro (B), fósforo (P), arsénico (As), aluminio (Al), antimonio (Sb) y galio (Ga) en productos individuales de silicio. El rango de concentración de cada impureza o dopante de elemento electroactivo en el silicio al que se aplica esta norma es (0,01 × 10 ~ 5,0 × 1 O) a. La concentración de cada impureza o dopante se puede obtener de la ley de Beer y se proporciona un factor de calibración para cada elemento.

GB/T 24581-2009 Documento de referencia

  • ASTM E131 Definiciones estándar de términos y símbolos relacionados con la espectroscopia molecular
  • ASTM E168 Prácticas estándar para técnicas generales de análisis cuantitativo infrarrojo
  • ASTM E177 Práctica estándar para el uso de los términos precisión y sesgo en los métodos de prueba ASTM
  • ASTM E275 Práctica estándar para describir y medir el rendimiento de espectrofotómetros ultravioleta, visible e infrarrojo cercano
  • GB/T 13389 Práctica para la conversión entre resistividad y densidad dopante para silicio dopado con boro, fósforo y arsénico*2014-12-31 Actualizar
  • GB/T 14264 Materiales semiconductores-Términos y definiciones
  • GB/T 1558 Método de prueba para determinar el contenido de carbono atómico sustitucional del silicio mediante absorción infrarroja
  • GB/T 6618 Método de prueba para el espesor y la variación del espesor total de rodajas de silicio.

GB/T 24581-2009 Historia

  • 2022 GB/T 24581-2022 Método de prueba para el contenido de impurezas Ⅲ y Ⅴ en silicio monocristalino: método de análisis FT-IR a baja temperatura
  • 2009 GB/T 24581-2009 Método de prueba para análisis FT-IR a baja temperatura de silicio monocristalino para impurezas Ⅲ-Ⅴ



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