GB/T 6618-2009 (Versión en inglés)

Estándar No.: GB/T 6618-2009
Idiomas: Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación: 2009
Organización: General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Ultima versión: GB/T 6618-2009
Reemplazar: GB/T 6618-1995

Alcance: Esta norma especifica los métodos de medición discretos y de escaneo para el espesor y la variación del espesor total de láminas de monocristal de silicio, láminas traslapadas, láminas pulidas y obleas epitaxiales (obleas de silicio para abreviar). Esta norma se aplica a la medición del espesor y la variación del espesor total de obleas de silicio que cumplen con las dimensiones especificadas en GB/T 12964, GB/T 12965 y GB/T 14139. Esta norma también se puede utilizar para medir el espesor y la variación total del espesor. variación de espesor de obleas de silicio con otras especificaciones si el equipo de prueba lo permite.

GB/T 6618-2009 Documento de referencia

GB/T 12964 Obleas pulidas de silicio monocristalino*， 2018-09-17 Actualizar
GB/T 12965 Silicio monocristalino en forma de obleas cortadas y obleas lapeadas*， 2018-09-17 Actualizar
GB/T 14139 Obleas epitaxiales de silicio*， 2019-06-04 Actualizar
GB/T 2828.1 Procedimiento de inspección por muestreo de conteo, parte 1: Plan de muestreo de inspección lote por lote recuperado por el límite de calidad de aceptación (AQL)*， 2013-02-15 Actualizar

2009 GB/T 6618-2009 Método de prueba para el espesor y la variación del espesor total de rodajas de silicio.
1995 GB/T 6618-1995