Esta norma especifica el método de prueba de fotoluminiscencia para impurezas de boro y fósforo en monocristales de silicio. Esta norma es aplicable a la determinación del contenido de impurezas conductoras de boro y fósforo en monocristales de silicio con baja densidad de dislocación (< 500/cm) y a la detección del contenido de 1×10 a • cm~5. ×10 at en monocristales de silicio ·cm de diversas impurezas eléctricamente activas.
SJ/T 11494-2015 Documento de referencia
GB/T 13389 Práctica para la conversión entre resistividad y densidad dopante para silicio dopado con boro, fósforo y arsénico
GB/T 24581 Método de prueba para el contenido de impurezas Ⅲ y Ⅴ en silicio monocristalino: método de análisis FT-IR a baja temperatura*, 2022-03-09 Actualizar