GB/T 14863-2013 Método para la densidad neta de portadores en capas epitaxiales de silicio mediante capacitancia de voltaje de diodos activados y no activados (Versión en inglés)
Esta norma especifica el método de prueba para determinar la concentración neta de portadores en capas epitaxiales de silicio utilizando la relación voltaje-capacitancia de diodos activados y no activados. Esta norma se aplica a la medición de la concentración neta de portadores de capas epitaxiales de tipo n o tipo p sobre sustratos del mismo tipo de conductividad o de tipos opuestos con un espesor de capa epitaxial no inferior a un cierto valor de espesor mínimo (ver Apéndice A). Esta norma también es aplicable a la medición de la concentración neta de portadores de obleas pulidas de silicio.
GB/T 14863-2013 Documento de referencia
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GB/T 14146 Método de prueba para la concentración de portadores de capas epitaxiales de silicio: método de capacitancia-voltaje*, 2021-05-21 Actualizar
GB/T 14847 Método de prueba para determinar el espesor de capas epitaxiales de silicio ligeramente dopado sobre sustratos de silicio fuertemente dopados mediante reflectancia infrarroja
GB/T 14863-2013 Historia
2013GB/T 14863-2013 Método para la densidad neta de portadores en capas epitaxiales de silicio mediante capacitancia de voltaje de diodos activados y no activados
1993GB/T 14863-1993 Método de prueba estándar para la densidad neta de portadores en capas equitaxiales de silicio mediante capacitancia de voltaje de diodos activados y no activados