GB/T 14863-1993
Método de prueba estándar para la densidad neta de portadores en capas equitaxiales de silicio mediante capacitancia de voltaje de diodos activados y no activados (Versión en inglés)

Estándar No.
GB/T 14863-1993
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
1993
Organización
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Estado
 2014-08
Remplazado por
GB/T 14863-2013
Ultima versión
GB/T 14863-2013
Alcance
Esta norma especifica el principio, los instrumentos y materiales, la preparación de muestras, los procedimientos de medición y el procesamiento de datos para determinar la concentración neta de corriente en la capa epitaxial de silicio utilizando la relación voltaje-capacitancia de diodos activados y no activados. Esta norma se aplica a capas epitaxiales de tipo n o tipo p sobre sustratos del mismo tipo de conductividad u opuesto cuyo espesor de capa epitaxial no sea menor que un cierto valor de espesor mínimo (ver Apéndice B), y también se aplica a materiales a granel.

GB/T 14863-1993 Historia

  • 2013 GB/T 14863-2013 Método para la densidad neta de portadores en capas epitaxiales de silicio mediante capacitancia de voltaje de diodos activados y no activados
  • 1993 GB/T 14863-1993 Método de prueba estándar para la densidad neta de portadores en capas equitaxiales de silicio mediante capacitancia de voltaje de diodos activados y no activados



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