ISO 12406:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio normas y especificaciones

Alcance: Esta norma internacional especifica un método de espectrometría de masas de iones secundarios que utiliza espectrómetros de masas de sector magnético o cuadrupolo para realizar perfiles de profundidad de arsénico en silicio, y que utiliza perfilometría de lápiz óptico o interferometría óptica para la calibración de profundidad. Este método es aplicable a muestras monocristalinas, policristalinas o de silicio amorfo con concentraciones atómicas de arsénico entre 1 × 1016 átomos/cm3 y 2,5 × 1021 átomos/cm3, y a profundidades de cráteres de 50 nm o más.

ISO 12406:2010 Documento de referencia

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2010 ISO 12406:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio