ISO 17331:2004 Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF). normas y especificaciones

Alcance: Esta norma internacional especifica métodos químicos para la recolección de hierro y/o níquel de la superficie de materiales de referencia para trabajar con obleas de silicio mediante el método de descomposición en fase de vapor o el método de descomposición directa en gotas ácidas. Esta norma internacional se aplica a densidades superficiales atómicas de hierro y/o níquel de 6 × 109 átomos/cm2 a 5 × 1011 átomos/cm2.

ISO 17331:2004 Documento de referencia

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2004 ISO 17331:2004 Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF).