ISO 17331:2004/Amd 1:2010
Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopia de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF); Enmienda 1

Estándar No.
ISO 17331:2004/Amd 1:2010
Fecha de publicación
2010
Organización
International Organization for Standardization (ISO)
Ultima versión
ISO 17331:2004/Amd 1:2010

ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Historia

  • 2010 ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopia de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF); Enmienda 1
  • 2004 ISO 17331:2004 Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF).



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