ASTM F1619-95(2000)e1
Método de prueba estándar para medir el contenido de oxígeno intersticial de obleas de silicio mediante espectroscopia de absorción infrarroja con radiación p-polarizada incidente en el ángulo de Brewster
- Estándar No.
- ASTM F1619-95(2000)e1
- Fecha de publicación
- 1995
- Organización
- American Society for Testing and Materials (ASTM)
- Estado
- 2003-08
- Ultima versión
- ASTM F1619-95(2000)e1
- Alcance
- Este estándar fue transferido a SEMI (www.semi.org) en mayo de 20031.1 Este método de prueba cubre la determinación del coeficiente de absorción debido al contenido de oxígeno intersticial de obleas comerciales de silicio monocristalino mediante espectroscopía infrarroja por transformada de Fourier (FT-IR). En este método de prueba, la radiación incidente se polariza p e incide sobre la muestra de prueba en el ángulo de Brewster para minimizar múltiples reflexiones. Nota 18212; En este método de prueba, la radiación en la que el vector eléctrico es paralelo al plano de incidencia se define como radiación polarizada p. Nota 28212; Se ha informado al Comité F01 que algunos aspectos de este método de prueba pueden estar sujetos a una patente. solicitado por Toshiba Ceramics Corporation. El Comité no adopta ninguna posición con respecto a la aplicabilidad o validez de dichas patentes, pero solicita a los usuarios de este método de prueba y a otras partes interesadas que proporcionen cualquier información disponible sobre alternativas no patentadas para su uso en relación con este método de prueba.1.2 Desde la La concentración de oxígeno intersticial es proporcional al coeficiente de absorción de la banda de absorción de 1107 cm1, el contenido de oxígeno intersticial de la oblea se puede derivar directamente utilizando un factor de calibración determinado independientemente.1.3 La muestra de prueba es una oblea de silicio pulida de un solo lado del tipo especificado en Especificaciones SEMI M1. La superficie frontal de la oblea está pulida como espejo y la superficie posterior puede estar cortada, lapeada o grabada (ver 8.1.1.1).1.4 Este método de prueba es aplicable a obleas de silicio con una resistividad superior a 5 937 cm a temperatura ambiente. .1.5 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hubiera, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.
ASTM F1619-95(2000)e1 Documento de referencia
ASTM F1619-95(2000)e1 Historia
- 1995 ASTM F1619-95(2000)e1 Método de prueba estándar para medir el contenido de oxígeno intersticial de obleas de silicio mediante espectroscopia de absorción infrarroja con radiación p-polarizada incidente en el ángulo de Brewster
- 1995 ASTM F1619-95(2000) Método de prueba estándar para medir el contenido de oxígeno intersticial de obleas de silicio mediante espectroscopia de absorción infrarroja con radiación p-polarizada incidente en el ángulo de Brewster
