ASTM F576-01

Estándar No.
ASTM F576-01
Fecha de publicación
1970
Organización
/
Ultima versión
ASTM F576-01
Alcance
1.1 Este método de prueba cubre la medición por elipsometría del espesor y el índice de refracción de un aislante cultivado o depositado sobre un sustrato de silicio. 1.2 Este método de prueba utiliza luz monocromática. 1.3 Este método de prueba no es destructivo y puede usarse para medir el espesor y el índice de refracción de cualquier película que no absorba luz en la longitud de onda de medición sobre cualquier sustrato (1) no transparente a la luz en la longitud de onda de medición, y (2) de un material para en el que tanto el índice de refracción como el coeficiente de absorción son conocidos en la longitud de onda de medición. 1.4 La precisión de este método de prueba se reduce por variaciones, en regiones más pequeñas que el tamaño del punto del haz de luz, en la planitud del sustrato, el espesor del aislante y el índice de refracción. 1.5 Las mediciones del espesor de la película determinadas mediante elipsom etría no son únicas. Cuando el espesor de la película es mayor que el calculado a partir de la expresión Nl/[2(n 2 − sin 2 f0)1/2 ], donde N es un número entero, l la longitud de onda de medición, n el índice de refracción y f0 el ángulo de incidencia, el valor de espesor determinado por esta expresión debe sumarse al valor de espesor determinado por elipsometría para obtener el espesor de película correcto. El valor de N debe obtenerse mediante otro procedimiento. 1.6 Se proporcionan dos procedimientos para calcular los resultados. Si se utiliza el procedimiento gráfico, la longitud de onda de medición será de 546,1 o 632,8 nm y el ángulo de incidencia será de 70 ± 0,1°. 1.7 Este método de prueba puede usarse para mediciones de referencia. 1 Este método de prueba está bajo la jurisdicción del Comité F01 de ASTM sobre Electrónica y es responsabilidad directa del Subcomité F01.06 sobre Mediciones eléctricas y ópticas. Edición actual aprobada el 10 de junio de 2001. Publicado en agosto de 2001. Publicado originalmente como F 576 – 78. Última edición anterior F 576 – 00. 1 Copyright © ASTM, 100 Barr Harbor Drive, West Conshohocken, PA 19428-2959, Estados Unidos. AVISO: Este estándar ha sido reemplazado y reemplazado por una nueva versión o ha sido descontinuado. Comuníquese con ASTM International (www.astm.org) para obtener la información más reciente. con cálculos informáticos. 1.8 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso. Las declaraciones de peligro específicas se dan en la Sección 9.

ASTM F576-01 Documento de referencia

  • ASTM C31/C31M Práctica estándar para fabricar y curar muestras de prueba de concreto en el campo*2023-06-01 Actualizar
  • ASTM D5127 Guía estándar para agua ultrapura utilizada en la industria electrónica y de semiconductores*1999-10-26 Actualizar
  • ASTM E177 Práctica estándar para el uso de los términos precisión y sesgo en los métodos de prueba ASTM*1990-10-26 Actualizar
  • ASTM E284 Terminología estándar de apariencia*1999-10-26 Actualizar
  • ASTM F95 

ASTM F576-01 Historia

  • 1970 ASTM F576-01
  • 2000 ASTM F576-00 Método de prueba estándar para medir el espesor del aislador y el índice de refracción en sustratos de silicio mediante elipsometría



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