ASTM F522-94 normas y especificaciones

Alcance: 1.1 Este método de prueba cubre la determinación no destructiva de la densidad de fallas de apilamiento en capas epitaxiales de silicio.2 1.2 Este método de prueba es adecuado para capas epitaxiales con cualquier densidad de fallas de apilamiento. Sin embargo, debido a que contar un gran número de fallas con un microscopio es tedioso, la precisión esperada para densidades superiores a 15 000 cmm2 es menor que la esperada para densidades más bajas. 1.3 Este método de prueba es aplicable sólo a muestras limitadas con superficies dentro de unos pocos grados de cualquier plano {111) o {100). Para cualquier orientación, la forma poligonal de las fallas cambia con la mala orientación del sustrato, y la precisión del método de prueba tiende a disminuir a medida que la orientación de la superficie se aleja de la del plano {11 I} o {100}. 1.4 Este método de prueba es aplicable sólo a capas epitaxiales con un espesor de 3 mm o más. NOTA 1: Se sugiere que cuando la delimitación de las fallas mediante este método de prueba sea difícil, el operador debe realizar análisis comparativos con el uso del método destructivo prescrito en el Método de prueba F 80. 1.3 Esta norma no pretende abordar todos los los problemas de seguridad, si los hubiera, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.

ASTM F522-94 Documento de referencia