GB/T 13388-1992 Método para medir la orientación cristalográfica de planos en láminas y obleas de silicio monocristalino mediante técnicas de rayos X. (Versión en inglés)
Esta norma especifica el método para medir la orientación cristalográfica del plano de referencia de obleas de silicio mediante tecnología de rayos X. Esta norma es aplicable a la medición de la desviación angular entre la orientación cristalográfica del plano de referencia de la oblea de silicio y la orientación especificada del plano de referencia. El diámetro de la oblea de silicio es de 50 a 125 mm y la longitud de la superficie de referencia es de 10 a 50 mm. Esta norma no se aplica a la medición de obleas de silicio cuya orientación especificada está en un plano perpendicular al plano de referencia y a la superficie de la oblea de silicio, y al ángulo entre la proyección de la superficie de la oblea de silicio y la línea normal de la oblea de silicio. superficie no sea inferior a 3°.
GB/T 13388-1992 Historia
2009GB/T 13388-2009 Método para medir la orientación cristalográfica de planos en rodajas y obleas de silicio monocristalino mediante técnicas de rayos X.
1992GB/T 13388-1992 Método para medir la orientación cristalográfica de planos en láminas y obleas de silicio monocristalino mediante técnicas de rayos X.