Esta norma especifica el método de conversión entre la resistividad del monocristal de silicio dopado con boro y fósforo y la concentración de dopante a 23°C. Esta norma se aplica a monocristales de silicio dopados con boro con una concentración de dopante de 1012~1021cm-3 (resistividad 0,0001~10.000Ω·cm) y 1012 ~5×1020cm-3 (resistividad 0,0002~4.000Ω·cm) conversión de fósforo- La resistividad del monocristal de silicio dopado y la concentración de dopantes también se pueden extender a la activación del silicio. Otros dopantes similares al boro y el fósforo.
GB/T 13389-1992 Historia
2014GB/T 13389-2014 Práctica para la conversión entre resistividad y densidad dopante para silicio dopado con boro, fósforo y arsénico
1992GB/T 13389-1992 Práctica para la conversión entre resistividad y densidad dopante para silicio dopado con boro y fósforo