Esta norma especifica el método para la determinación del contenido de oxígeno intersticial en cristales de silicio mediante absorción infrarroja. Esta norma es aplicable a la medición del contenido de oxígeno en cristales de silicio con resistividad a temperatura ambiente superior a 0,1Ω·cm. El rango de medición es: la concentración de oxígeno es desde 3,5×1515 en cm-3 hasta la máxima solubilidad sólida.
GB/T 1557-1989 Historia
2018GB/T 1557-2018 Método de prueba para determinar el contenido de oxígeno intersticial en silicio mediante absorción infrarroja.
2006GB/T 1557-2006 El método para determinar el contenido de oxígeno intersticial en silicio mediante absorción infrarroja.
1989GB/T 1557-1989 El método para determinar el contenido de oxígeno intersticial en silicio mediante absorción infrarroja.