GB/T 14849.4-2014 Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de impurezas. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. (Versión en inglés)
Esta parte de GB/T 14849 especifica los métodos para la determinación de hierro, aluminio, calcio, manganeso, titanio, níquel, cobre, cromo, vanadio, magnesio, cobalto, fósforo, potasio, sodio, plomo, zinc y boro en silicio industrial. . Esta parte es aplicable a la determinación de hierro, aluminio, calcio, manganeso, titanio, níquel, cobre, cromo, vanadio, magnesio, cobalto, fósforo, potasio, sodio, plomo, zinc y boro en silicio industrial. El rango de determinación de cada elemento se muestra en la Tabla 1.
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GB/T 14849.4-2014 Historia
2014GB/T 14849.4-2014 Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de impurezas. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
2008GB/T 14849.4-2008 Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de elementos. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.