GB/T 14849.4-2008
Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de elementos. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. (Versión en inglés)
- Estándar No.
- GB/T 14849.4-2008
- Idiomas
- Chino, Disponible en inglés
- Fecha de publicación
- 2008
- Organización
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- Estado
- 2015-08
- Remplazado por
- GB/T 14849.4-2014
- Ultima versión
- GB/T 14849.4-2014
- Alcance
- Esta parte especifica el método de determinación del contenido de hierro, aluminio, calcio, titanio, manganeso y níquel en el silicio industrial. Esta parte es aplicable a la determinación del contenido de hierro, aluminio, calcio, titanio, manganeso y níquel en silicio industrial. El rango de determinación se muestra en la Tabla 1.
GB/T 14849.4-2008 Historia
- 2014 GB/T 14849.4-2014 Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de impurezas. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
- 2008 GB/T 14849.4-2008 Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de elementos. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
GB/T 14849.4-2008 - Все части
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GB/T 14849.4-2014 Métodos para el análisis químico del silicio metálico. Parte 4: Determinación del contenido de impurezas. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
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GB/T 14849.8-2015
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