KS C 6520-2008
Componentes y materiales del proceso semiconductor－Medición de las características de desgaste por plasma.

Estándar No.

KS C 6520-2008

Fecha de publicación

2008

Organización

Korean Agency for Technology and Standards (KATS)

Estado

Remplazado por

KS C 6520-2019

Ultima versión

KS C 6520-2021

Alcance

Esta norma se aplica a piezas dentro de equipos de proceso de deposición o grabado por plasma y que están expuestas al plasma.

KS C 6520-2008 Historia

• 2021 KS C 6520-2021 Componentes y materiales del proceso semiconductor. Medición de las características de desgaste por plasma.
• 2019 KS C 6520-2019 Componentes y materiales del proceso semiconductor. Medición de las características de desgaste por plasma.
• 2008 KS C 6520-2008 Componentes y materiales del proceso semiconductor－Medición de las características de desgaste por plasma.