GB/T 1555-2009
Métodos de prueba para determinar la orientación de un monocristal semiconductor. (Versión en inglés)

Estándar No.

GB/T 1555-2009

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

2009

Organización

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China

Estado

 2024-03

Remplazado por

GB/T 1555-2023

Ultima versión

GB/T 1555-2023

Reemplazar

GB/T 1555-1997

Alcance

Esta norma especifica los métodos para la orientación por difracción de rayos X y la orientación del patrón óptico de monocristales semiconductores. Esta norma se aplica a la determinación de la orientación de la superficie de materiales semiconductores monocristalinos aproximadamente paralelos al plano atómico de bajo índice.

GB/T 1555-2009 Documento de referencia

• GB/T 14264-2009 Materiales semiconductores-Términos y definiciones
• GB/T 2481.1-1998 Abrasivos aglomerados. Determinación y designación de la distribución granulométrica. Parte 1: Macrogranos F4 a F220.
• GB/T 2481.2-2009 Abrasivos aglomerados-Determinación y designación de la distribución del tamaño de grano-Parte 2: Microgranos

GB/T 1555-2009 Historia

• 2023 GB/T 1555-2023 Método para determinar la orientación cristalina de un monocristal semiconductor
• 2009 GB/T 1555-2009 Métodos de prueba para determinar la orientación de un monocristal semiconductor.
• 1997 GB/T 1555-1997 Métodos de prueba para determinar la orientación de un monocristal semiconductor.