Esta norma especifica los métodos para la orientación por difracción de rayos X y la orientación del patrón óptico de monocristales semiconductores. Esta norma es aplicable a la determinación de la orientación de la superficie de cristales de materiales monocristalinos semiconductores aproximadamente paralelos a los planos atómicos de bajo índice. Esta norma incluye dos métodos de prueba: Método A. Método de orientación por difracción de rayos X. Este método se puede utilizar para la orientación de todos los monocristales semiconductores. Método B Método de orientación del mapa de luces. Este método se utiliza actualmente para la orientación de monocristales semiconductores de un solo elemento.
GB/T 1555-1997 Historia
2023GB/T 1555-2023 Método para determinar la orientación cristalina de un monocristal semiconductor
2009GB/T 1555-2009 Métodos de prueba para determinar la orientación de un monocristal semiconductor.
1997GB/T 1555-1997 Métodos de prueba para determinar la orientación de un monocristal semiconductor.