JIS K 0160:2009
Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF).

Estándar No.

JIS K 0160:2009

Fecha de publicación

2009

Organización

Japanese Industrial Standards Committee (JISC)

Ultima versión

JIS K 0160:2009

JIS K 0160:2009 Documento de referencia

• JIS B 9920 Clasificación de la limpieza del aire para salas blancas.
• JIS K 0148 Análisis químico de superficies: determinación de la contaminación elemental de la superficie en obleas de silicio mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF)
• JIS Z 8402-2 Exactitud (veracidad y precisión) de los métodos y resultados de medición. Parte 2: Método básico para la determinación de la repetibilidad y reproducibilidad de un método de medición estándar.

JIS K 0160:2009 Historia

• 2009 JIS K 0160:2009 Análisis químico de superficies: métodos químicos para la recolección de elementos de la superficie de materiales de referencia de trabajo de obleas de silicio y su determinación mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF).