ASTM F1238-95(2003)
Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas

Estándar No.

ASTM F1238-95(2003)

Fecha de publicación

1995

Organización

American Society for Testing and Materials (ASTM)

Estado

Remplazado por

ASTM F1238-95(2011)

Ultima versión

ASTM F1238-95(2011)

Alcance

1.1 Esta especificación cubre objetivos de pulverización catódica fabricados a partir de siliciuros metálicos (siliciuro de molibdeno, siliciuro de tantalio, siliciuro de titanio y siliciuro de tungsteno). Estos objetivos se conocen como objetivos de siliciuro refractarios y están destinados a su uso en aplicaciones microelectrónicas. 1.2 Los valores indicados en unidades SI se consideran estándar.

ASTM F1238-95(2003) Historia

• 1995 ASTM F1238-95(2011) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas
• 1995 ASTM F1238-95(2003) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas
• 1995 ASTM F1238-95(1999) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas