ASTM F1188-00 Método de prueba estándar para el contenido de oxígeno atómico intersticial del silicio mediante absorción infrarroja normas y especificaciones

Alcance: 1.1 Este método de prueba cubre la determinación del contenido de oxígeno intersticial del silicio monocristalino mediante espectroscopía infrarroja. Este método de prueba requiere el uso de una muestra de referencia libre de oxígeno y un conjunto de estándares de calibración, como los que comprende NIST SRM 2551. Permite, pero no requiere, el uso de un espectrofotómetro computarizado. 1.2 El rango útil de concentración de oxígeno medible mediante este método de prueba es desde 1 X 1016 átomos/cm3 hasta la cantidad máxima de oxígeno intersticial soluble en silicio. 1.3 La concentración de oxígeno obtenida utilizando este método de prueba supone una relación lineal entre la concentración de oxígeno intersticial y el coeficiente de absorción de la banda de 1107 cm-1 asociada con el oxígeno intersticial en silicio. 1.4 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.

ASTM F1188-00 Documento de referencia

ASTM E1 Especificación estándar para termómetros ASTM
ASTM E131 Definiciones estándar de términos y símbolos relacionados con la espectroscopia molecular
ASTM E932 Práctica estándar para describir y medir el rendimiento de espectrómetros infrarrojos dispersivos

1970 ASTM F1188-02
2000 ASTM F1188-00 Método de prueba estándar para el contenido de oxígeno atómico intersticial del silicio mediante absorción infrarroja