ISO 22197-1:2007 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico normas y especificaciones

Alcance: Esta parte de la Norma ISO 22197 especifica un método de prueba para la determinación del rendimiento de purificación del aire de materiales que contienen un fotocatalizador o tienen películas fotocatalíticas en la superficie, generalmente hechas de óxidos metálicos semiconductores, como dióxido de titanio u otros materiales cerámicos, mediante análisis continuo. exposición de una pieza de prueba al contaminante del aire modelo bajo iluminación con luz ultravioleta. Esta parte de la Norma ISO 22197 está destinada a su uso con diferentes tipos de materiales, como materiales de construcción en forma de lámina plana, tablero o placa, que son las formas básicas de materiales para diversas aplicaciones. Esta parte de la Norma ISO 22197 también se aplica a materiales en forma de panal y a materiales plásticos o de papel si contienen microcristales cerámicos y compuestos. Esta parte de la Norma ISO 22197 no se aplica a materiales fotocatalíticos en polvo o granulares. Este método de prueba suele aplicarse a materiales fotocatalíticos producidos para la purificación del aire. Este método no es adecuado para la determinación de otros atributos de rendimiento de materiales fotocatalíticos, es decir, descomposición de contaminantes del agua, acciones autolimpiantes, antivaho y antibacterianas. Se trata de la eliminación del óxido nítrico.

ISO 22197-1:2007 Documento de referencia

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2016 ISO 22197-1:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
2007 ISO 22197-1:2007 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico