GB/T 19922-2005 (Versión en inglés)

Estándar No.: GB/T 19922-2005
Idiomas: Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación: 2005
Organización: General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Ultima versión: GB/T 19922-2005

Alcance: Esta norma especifica el método para medir la planitud local de la superficie de la oblea de silicio mediante el método de detección de desplazamiento capacitivo. Esta norma se aplica a la medición sin contacto y no destructiva de la planitud local de la superficie de una oblea de silicio semiconductor seca y limpia. Es adecuado para grabar, pulir y obleas de silicio epitaxiales con un diámetro de 100 mm y más y un espesor de 250 μm y más.

GB/T 19922-2005 Documento de referencia

ASTM F1530-94 Método de prueba estándar para medir la planitud, el espesor y la variación del espesor en obleas de silicio mediante escaneo automatizado sin contacto
GB/T 14264 Materiales semiconductores-Términos y definiciones*， 2009-10-30 Actualizar

2005 GB/T 19922-2005 Métodos de prueba estándar para medir la planitud del sitio en obleas de silicio mediante escaneo sin contacto