BS ISO 14706:2000
Análisis químico de superficies: determinación de la contaminación elemental de la superficie en obleas de silicio mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF)

Estándar No.

BS ISO 14706:2000

Fecha de publicación

2001

Organización

British Standards Institution (BSI)

Estado

 2014-07

Remplazado por

BS ISO 14706:2014

BS ISO 14706:2001

Ultima versión

BS ISO 14706:2014

Reemplazar

99/122512 DC:1999

Alcance

Esta norma internacional especifica un método TXRF para la medición de la densidad superficial atómica de la contaminación elemental en superficies de obleas de silicio epitaxiales o pulidas quimiomecánicamente. El método es aplicable a: 　——elementos de número atómico comprendido entre 16 (S) y 92 (U); 　——elementos de contaminación con densidades atómicas superficiales de 1 × 10 átomos/cm a 1 × 10 átomos/cm; 　——elementos de contaminación con densidades atómicas en la superficie de 5 × 10 átomos/cm a 5 × 10 átomos/cm usando un método de preparación de muestras VPD (descomposición en fase de vapor) (ver 3.4).

BS ISO 14706:2000 Historia

• 2014 BS ISO 14706:2014 Análisis químico de superficies. Determinación de la contaminación elemental de la superficie en obleas de silicio mediante espectroscopia de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF)
• 2001 BS ISO 14706:2000 Análisis químico de superficies: determinación de la contaminación elemental de la superficie en obleas de silicio mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF)