JIS K 0143:2000
Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente

Estándar No.

JIS K 0143:2000

Fecha de publicación

2000

Organización

Japanese Industrial Standards Committee (JISC)

Estado

 2023-02

Remplazado por

JIS K 0143:2023

Ultima versión

JIS K 0143:2023

Alcance

Este estándar especifica un método de espectrometría de masas de iones secundarios para determinar la concentración atómica de boro en silicio monocristalino utilizando una muestra dopada uniformemente calibrada con una muestra estándar certificada preparada mediante la implantación de boro. Este método se utiliza para determinar la concentración de boro añadido uniformemente en el rango de concentración de 1 x 10 átomos/cm a 1 x 10 átomos/cm.

JIS K 0143:2000 Historia

• 2023 JIS K 0143:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
• 2000 JIS K 0143:2000 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente