DIN 50455-2:1999
Ensayos de materiales para tecnología de semiconductores - Métodos para la caracterización de fotorresistentes - Parte 2: Determinación de la fotosensibilidad de fotorresistentes positivos
- Estándar No.
- DIN 50455-2:1999
- Fecha de publicación
- 1999
- Organización
- German Institute for Standardization
- Estado
- Remplazado por
- DIN 50455-2:1999-11
- Ultima versión
- DIN 50455-2:1999-11
- Alcance
- El método según el documento cubre la caracterización de fotoprotectores mediante la comparación de la fotosensibilidad determinada de un fotoprotector positivo de una sola capa sobre obleas de silicio con un fotoprotector de referencia.
DIN 50455-2:1999 Historia
- 1999 DIN 50455-2:1999-11 Ensayos de materiales para tecnología de semiconductores - Métodos para la caracterización de fotorresistentes - Parte 2: Determinación de la fotosensibilidad de fotorresistentes positivos
- 1999 DIN 50455-2:1999 Ensayos de materiales para tecnología de semiconductores - Métodos para la caracterización de fotorresistentes - Parte 2: Determinación de la fotosensibilidad de fotorresistentes positivos
