GB/T 15909-1995
Gas para la industria electrónica--Silano (Versión en inglés)
- Estándar No.
- GB/T 15909-1995
- Idiomas
- Chino, Disponible en inglés
- Fecha de publicación
- 1995
- Organización
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- Estado
- 2010-05
- Remplazado por
- GB/T 15909-2009
- Ultima versión
- GB/T 15909-2017
- Alcance
- Esta norma especifica los requisitos técnicos, métodos de inspección, reglas de inspección, embalaje, marcado, transporte, almacenamiento y requisitos de seguridad para el gas silano utilizado en la industria electrónica. Este estándar se utiliza principalmente en la industria electrónica para la deposición epitaxial de polisilicio y silicio monocristalino, deposición química de vapor de dióxido de silicio a baja temperatura, deposición de películas de silicio amorfo, etc. Fórmula molecular: SiH4 Masa molecular relativa: 32,117 (según la masa atómica relativa internacional en 1991). Punto de ebullición a 101,3kPa: ——112°C Densidad del gas a 20°C y 101,3kPa: 1,342kg/m3. Densidad del líquido a -185°C: 711kg/m3.
GB/T 15909-1995 Historia
- 2017 GB/T 15909-2017 Gas para la industria electrónica: silano
- 2009 GB/T 15909-2009 Gas para industria electrónica-Silano
- 1995 GB/T 15909-1995 Gas para la industria electrónica--Silano
