Esta norma especifica el método de medición por contacto para la curvatura de obleas de corte, obleas de molienda y obleas de pulido de monocristal de silicio (en adelante, obleas de silicio). Este estándar es adecuado para medir la curvatura de obleas circulares de silicio con un diámetro superior a 50 mm y un espesor de 200-1000 μm. Esta norma también es aplicable a la medición de la curvatura de otras obleas semiconductoras.
GB/T 6619-1995 Historia
2009GB/T 6619-2009 Método de prueba para el arco de obleas de silicio.