GB/T 40109-2021 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el boro en silicio. (Versión en inglés)
Este documento describe métodos para el perfilado de profundidad de boro en silicio utilizando un espectrómetro de masas de iones secundarios cuadrupolo o sector magnético, y métodos para la calibración de profundidad utilizando un perfilador de superficie de lápiz o un interferómetro óptico. /cm3 ~ 1×1020 a/cm3 silicio monocristalino, silicio policristalino o silicio amorfo Este documento es aplicable a muestras de silicio con un rango de concentración atómica de boro de 1×1016 at oms t oms y una profundidad de cráter de arco de pulverización catódica de 50 nm o superior.
GB/T 40109-2021 Documento de referencia
ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
GB/T 40109-2021 Historia
2021GB/T 40109-2021 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el boro en silicio.