GB/T 31225-2014
Método de prueba para el espesor del óxido de silicio sobre sustrato de Si mediante elipsómetro (Versión en inglés)
- Estándar No.
- GB/T 31225-2014
- Idiomas
- Chino, Disponible en inglés
- Fecha de publicación
- 2014
- Organización
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- Ultima versión
- GB/T 31225-2014
- Alcance
- Esta norma proporciona un método para medir el espesor de una fina capa de dióxido de silicio sobre una superficie de silicio utilizando un elipsómetro espectral con longitud de onda continuamente variable y ángulo variable. Este estándar es adecuado para probar el espesor de la capa delgada de dióxido de silicio con espesor uniforme, isotropía, 10 nm ~ 1000 nm de espesor sobre el sustrato de silicio. Se pueden medir otras muestras de película dieléctrica de una sola capa sobre el sustrato que sean opacas a la longitud de onda de prueba. Consulte este método.
GB/T 31225-2014 Documento de referencia
- JJF 1059.1-2012 Evaluación y expresión de la incertidumbre en la medición.
GB/T 31225-2014 Historia
- 2014 GB/T 31225-2014 Método de prueba para el espesor del óxido de silicio sobre sustrato de Si mediante elipsómetro
