IEC 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.
Esta parte de IEC 62047 especifica el método para realizar pruebas de flexión de materiales de película delgada con una longitud y ancho inferiores a 1 mm y un espesor en el rango entre 0 @ 1 ?? y 10 ??. Las películas delgadas se utilizan como materiales estructurales principales para sistemas microelectromecánicos (abreviados como MEMS en este documento) y micromáquinas. Los principales materiales estructurales para MEMS@ micromáquinas@ etc.@ tienen características especiales@ tales como un tamaño de unos pocos micrómetros@ fabricación de material mediante deposición@ fotolitografía@ y/o pieza de prueba de mecanizado no mecánico. Esta norma internacional especifica la prueba de flexión y la forma de la pieza de prueba para piezas de prueba de tipo voladizo liso de tamaño micro, lo que permite una garantía de precisión correspondiente a las características especiales.
IEC 62047-18:2013 Historia
2013IEC 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.