IEC 62047-18:2013
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.

Estándar No.
IEC 62047-18:2013
Fecha de publicación
2013
Organización
International Electrotechnical Commission (IEC)
Ultima versión
IEC 62047-18:2013
Reemplazar
IEC 47F/155/FDIS:2013
Alcance
Esta parte de IEC 62047 especifica el método para realizar pruebas de flexión de materiales de película delgada con una longitud y ancho inferiores a 1 mm y un espesor en el rango entre 0 @ 1 ?? y 10 ??. Las películas delgadas se utilizan como materiales estructurales principales para sistemas microelectromecánicos (abreviados como MEMS en este documento) y micromáquinas. Los principales materiales estructurales para MEMS@ micromáquinas@ etc.@ tienen características especiales@ tales como un tamaño de unos pocos micrómetros@ fabricación de material mediante deposición@ fotolitografía@ y/o pieza de prueba de mecanizado no mecánico. Esta norma internacional especifica la prueba de flexión y la forma de la pieza de prueba para piezas de prueba de tipo voladizo liso de tamaño micro, lo que permite una garantía de precisión correspondiente a las características especiales.

IEC 62047-18:2013 Historia

  • 2013 IEC 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.



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