ASTM F2113-01(2011) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada normas y especificaciones

Alcance: 1.1 Esta guía cubre los objetivos de pulverización catódica utilizados como material fuente de película delgada en la fabricación de dispositivos electrónicos semiconductores. Debe usarse para desarrollar especificaciones objetivo para materiales específicos y debe mencionarse en ellas. 1.2 Esta norma establece niveles de pureza, métodos analíticos y métodos y formatos para informar el contenido de impurezas. 1.2.1 La designación de grado es una medida del contenido total de impurezas metálicas. La designación del grado no indica necesariamente la idoneidad para una aplicación particular porque otros factores además de la impureza metálica total pueden influir en el rendimiento.

ASTM F2113-01(2011) Documento de referencia

ASTM F1593 Método de prueba estándar para trazas de impurezas metálicas en aluminio de calidad electrónica mediante espectrómetro de masas de descarga luminosa de alta resolución

2001 ASTM F2113-01(2011) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
2007 ASTM F2113-01(2007) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
2001 ASTM F2113-01e1 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
2001 ASTM F2113-01 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada