GB/T 25188-2010 (Versión en inglés)

Estándar No.: GB/T 25188-2010
Idiomas: Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación: 2010
Organización: General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Ultima versión: GB/T 25188-2010

Alcance: Esta norma especifica un método para medir con precisión el espesor de una capa ultrafina de óxido de silicio en la superficie de una oblea de silicio, es decir, espectroscopía de fotoelectrones de rayos X (XPS). Esta norma es aplicable a la medición precisa del espesor de la capa ultrafina de óxido de silicio preparada sobre la superficie de la oblea de silicio mediante oxidación térmica; normalmente, el espesor de la capa de óxido de silicio a la que se aplica esta norma no es superior a 6 nm.

GB/T 25188-2010 Documento de referencia

GB/T 19500 Reglas generales para el método de análisis espectroscópico de fotoelectrones de rayos X.
GB/T 21006 Análisis químico de superficies. Fotoelectrones de rayos X y espectrómetros de electrones Auger. Linealidad de la escala de intensidad.
GB/T 22461 Análisis químico de superficies. Vocabulario
GB/T 22571 Análisis químico de superficies: espectrómetros de fotoelectrones de rayos X. Calibración de escalas de energía.*， 2017-09-07 Actualizar

2010 GB/T 25188-2010 Mediciones de espesor para capas ultrafinas de óxido de silicio en obleas de silicio Espectroscopía de fotoelectrones de rayos X