GB/T 24583.8-2009 Aleación de vanadio-nitrógeno. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. (Versión en inglés)
Esta parte de GB/T 24583 especifica la determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio mediante espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. Esta parte es aplicable a la determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio en una aleación de nitrógeno y vanadio. Rango de medición (fracción de masa): silicio: 0,010% a 1,00%; manganeso: 0,010% a 0,500%; fósforo: 0,010% a 0,500%; aluminio 0,010% a 1,00%.
GB/T 24583.8-2009 Documento de referencia
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GB/T 24583.8-2009 Historia
2019GB/T 24583.8-2019 Nitrógeno de vanadio. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
2009GB/T 24583.8-2009 Aleación de vanadio-nitrógeno. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.