ASTM F358-83(1996)e1 Método de prueba estándar para la longitud de onda de fotoluminiscencia máxima y la composición correspondiente de obleas de fosfuro de arseniuro de galio
1.1 Este método de prueba cubre las técnicas utilizadas para determinar la longitud de onda del pico de fotoluminiscencia y el porcentaje molar de fósforo del fosfuro de arseniuro de galio, GaAs(1 x)Px.1.2 Las mediciones de fotoluminiscencia indican la composición solo en la región iluminada y solo dentro de una zona muy distancia corta desde la superficie, una distancia limitada por la penetración de la radiación y la longitud de difusión de los portadores fotogenerados, en contraste con las mediciones de rayos X que muestrean un volumen mucho más profundo.1.3 Este método de prueba está limitado por la preparación de la superficie Procedimiento para la aplicación a capas epitaxiales del semiconductor cultivado en un reactor en fase de vapor sobre un sustrato plano. Es directamente aplicable a GaAs(1x)Px de tipo n con la longitud de onda, PL, del pico de fotoluminiscencia en el rango de 640 a 670 nm, correspondiente al porcentaje molar de fósforo en el rango de 36 a 42 % (x = 0,36 a 0,42). Los datos de calibración proporcionados para la determinación de x de PL son aplicables a materiales dopados con teluro o selenio en concentraciones en el rango de 1016 a 1018 átomos/cm3.1.4 El principio de este método de prueba es aplicable más ampliamente. Otros métodos de preparación de materiales pueden requerir diferentes tratamientos de superficie. La extensión a otros dopantes, rangos de dopaje o rangos de composición requiere trabajo adicional para relacionar PL con el contenido de fósforo determinado por mediciones de rayos X de las dimensiones precisas de la celda unitaria en la que se basan los datos de calibración. Es esencial que las muestras de calibración tengan una composición uniforme en el volumen muestreado. 1.5 Este método de prueba es esencialmente no destructivo. Requiere un ligero grabado de la muestra a medir. Se requiere la eliminación de una capa de material de aproximadamente 0,5 a 1,0 m de espesor. Este grabado no degrada la muestra en el sentido de que aún se pueden fabricar dispositivos a partir de ella. 1.6 Este método de prueba es aplicable al control de procesos en la preparación de materiales y a la aceptación de materiales. 1.7 Esta norma no pretende abordar todas las preocupaciones de seguridad, en su caso, asociados a su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso. Las declaraciones de peligro específicas se dan en la Sección 7.
ASTM F358-83(1996)e1 Historia
1983ASTM F358-83(2002) Método de prueba estándar para la longitud de onda de fotoluminiscencia máxima y la composición correspondiente de obleas de fosfuro de arseniuro de galio
1983ASTM F358-83(1996)e1 Método de prueba estándar para la longitud de onda de fotoluminiscencia máxima y la composición correspondiente de obleas de fosfuro de arseniuro de galio