ASTM F1617-98
Método de prueba estándar para medir sodio, aluminio, potasio y hierro en superficies en sustratos de silicio y EPI mediante espectrometría de masas de iones secundarios

Estándar No.

ASTM F1617-98

Fecha de publicación

1998

Organización

American Society for Testing and Materials (ASTM)

Estado

Remplazado por

ASTM F1617-98(2002)

Ultima versión

ASTM F1617-98(2002)

Alcance

1.1 Este método de prueba cubre la determinación del sodio, aluminio y potasio totales en la superficie de sustratos de silicio monocristalino y epi de silicio pulidos a espejo mediante espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS). Este método de prueba mide la cantidad total de cada metal, porque este método de prueba es independiente de la actividad química o eléctrica del metal. 1.2 Este método de prueba se puede utilizar para silicio con todas las especies y concentraciones de dopantes. 1.3 Este método de prueba está especialmente diseñado para usarse en contaminación de metales superficiales que se encuentran dentro de aproximadamente 5 nm de la superficie de la oblea. 1.4 Este método de prueba es especialmente útil para determinar las densidades superficiales del metal en el óxido nativo o en el óxido cultivado químicamente de sustratos de silicio pulidos después de la limpieza. 1.5 Este método de prueba es útil para densidades de área de sodio, aluminio y potasio entre 10 y 10 14 átomos/cm. El límite de detección está determinado por el valor EN BLANCO o por las limitaciones de la tasa de conteo y puede variar según la instrumentación. 1.6 Este método de prueba es complementario a: 1.6.1 Fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF), que puede detectar metales de superficie con mayor número atómico Z, pero no tiene límites de detección útiles (y;lt;10 11 átomos/cm) para sodio, potasio y aluminio sobre silicio. 1.6.2 Espectroscopia electrónica para análisis químicos y espectroscopia electrónica Auger que puede detectar densidades superficiales de metales del orden de 10 12 a 10 13 átomos/cm. 1.6.3 Descomposición en fase de vapor (VPD) de metales de superficie seguida de espectroscopia de absorción atómica (AAS) o espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente (ICP-MS) del residuo de VPD, donde los límites de detección de metales son de 10 a 10 10 átomos/cm. No hay información espacial disponible y la preconcentración de metales VPD depende de la química de cada metal. 1.7 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.

ASTM F1617-98 Documento de referencia

• ASTM E122 Práctica estándar para calcular el tamaño de la muestra para estimar, con un error tolerable especificado, el promedio de la característica de un lote o proceso*， 2000-10-10 Actualizar
• ASTM E673 Terminología estándar relacionada con el análisis de superficies

ASTM F1617-98 Historia

• 1970 ASTM F1617-98(2002)
• 1998 ASTM F1617-98 Método de prueba estándar para medir sodio, aluminio, potasio y hierro en superficies en sustratos de silicio y EPI mediante espectrometría de masas de iones secundarios