JIS K 0146:2002 Análisis químico de superficies - Perfilado de profundidad de sputtering - Optimización utilizando sistemas en capas como materiales de referencia
Esta norma especifica el uso de materiales de referencia adecuados de una o varias capas para obtener una resolución de profundidad óptima en función de las condiciones de medición en espectroscopia de electrones Auger, espectroscopia de fotoelectrones de rayos X y espectrometría de masas de iones secundarios. Se especifican los parámetros de análisis de profundidad. Esta norma no aborda el uso de sistemas multicapa especiales, por ejemplo capas dopadas delta.
JIS K 0146:2002 Historia
2002JIS K 0146:2002 Análisis químico de superficies - Perfilado de profundidad de sputtering - Optimización utilizando sistemas en capas como materiales de referencia