ISO/TR 22335:2007 Análisis químico de superficies - Perfilado en profundidad - Medición de la tasa de pulverización catódica: método de réplica de malla utilizando un perfilómetro de lápiz mecánico normas y especificaciones

Alcance: Este informe técnico describe un método para determinar las tasas de pulverización iónica para mediciones de perfiles de profundidad con espectroscopia electrónica Auger (AES) y espectroscopia fotoelectrónica de rayos X (XPS), donde la muestra se pulveriza con iones sobre una región con un área entre 0,4 mm2 y 3,0 mm2. Este Informe Técnico es aplicable únicamente a un material a granel lateralmente homogéneo o de una sola capa donde la tasa de pulverización iónica se determina a partir de la profundidad pulverizada, medida con un perfilómetro de aguja mecánico, y el tiempo de pulverización. Este informe técnico proporciona un método para convertir la escala de tiempo de pulverización catódica a la profundidad de pulverización catódica en un perfil de profundidad asumiendo una velocidad de pulverización catódica constante. Este método no ha sido diseñado ni probado utilizando un sistema de microscopio de sonda de barrido. No es aplicable al caso en el que el área pulverizada sea inferior a 0,4 mm2 o cuando la rugosidad de la superficie inducida por la pulverización catódica sea significativa en comparación con la profundidad pulverizada que se va a medir.

ISO/TR 22335:2007 Historia

2007 ISO/TR 22335:2007 Análisis químico de superficies - Perfilado en profundidad - Medición de la tasa de pulverización catódica: método de réplica de malla utilizando un perfilómetro de lápiz mecánico