1.1 Este método de prueba cubre la determinación de la cantidad promedio de arco de obleas de silicio nominalmente circulares, pulidas o sin pulir, en condición libre (sin sujeción). 1.2 Este método de prueba está destinado principalmente para su uso con obleas que cumplan con los requisitos de dimensión y tolerancia de las Especificaciones SEMI M1. 1.3 Este método de prueba también se puede aplicar a obleas circulares de otros materiales semiconductores, como arseniuro de galio, o materiales de sustrato electrónico, como zafiro o granate de gadolinio y galio, que tengan un diámetro de 25 mm o más, un espesor de 0,18 mm o mayor, y una relación entre diámetro y espesor de hasta 250. Las obleas a ensayar pueden tener uno o más planos fiduciales siempre que estén ubicados de tal manera que la rebanada pueda centrarse en los pedestales de soporte (ver 7.1.2) sin caerse. apagado. 1.4 Los valores indicados en unidades pulgada-libra deben considerarse como estándar. Los valores entre paréntesis son sólo para información. 1.5 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.