GB/T 40110-2021 (Versión en inglés)

Alcance: Este documento describe el método TXRF para medir la densidad superficial atómica de la contaminación de elementos superficiales en obleas de silicio pulidas químicamente mecánicamente o cultivadas epitaxialmente. Este documento se aplica a las siguientes situaciones: 　——- Elementos con números atómicos de 16 (S) a 92 (U); 　——— Elementos contaminantes con densidades superficiales atómicas entre 1×1010a/cm2 y 1×1014a/cm2; tomstoms ——— Elementos contaminantes con una densidad atómica superficial entre 5×108a/cm2 y 5×1012átomst/cm2 obtenidos mediante el método de preparación de muestras VPD (descomposición en fase de vapor) (ver 3.oms4).

GB/T 40110-2021 Documento de referencia

ISO 14644-1 Salas blancas y ambientes controlados asociados - Parte 1: Clasificación de la limpieza del aire por concentración de partículas

2021 GB/T 40110-2021 Análisis químico de superficie: determinación de la contaminación elemental de la superficie en obleas de silicio mediante espectroscopía de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF)