T/CNIA 0061-2020
Determinación del contenido de impurezas en tetracloruro de silicio para epitaxia de silicio mediante espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente (Versión en inglés)

Estándar No.

T/CNIA 0061-2020

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

2020

Organización

Group Standards of the People's Republic of China

Ultima versión

T/CNIA 0061-2020

Alcance

Esta norma especifica el contenido, los métodos de prueba y la forma del informe de prueba de las pruebas de rendimiento de los equipos de ultrafiltración.

T/CNIA 0061-2020 Historia

• 2020 T/CNIA 0061-2020 Determinación del contenido de impurezas en tetracloruro de silicio para epitaxia de silicio mediante espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente