EN 62047-16:2015
Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo

Estándar No.

EN 62047-16:2015

Fecha de publicación

2015

Organización

European Committee for Electrotechnical Standardization（CENELEC）

Ultima versión

EN 62047-16:2015

Alcance

IEC 62047-16:2015 especifica los métodos de prueba para medir las tensiones residuales de películas con espesores en el rango de 0,01 µ a 10 µ en estructuras MEMS fabricadas mediante métodos de curvatura de oblea o deflexión de haz en voladizo.

EN 62047-16:2015 Historia

• 2015 EN 62047-16:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo