SJ 2757-1987 Método de medición por reflexión infrarroja de la concentración de portadores de carga en semiconductores fuertemente dopados. (Versión en inglés)
Esta norma es aplicable para medir la concentración de portadores de materiales semiconductores a granel fuertemente dopados, así como para medir la concentración de portadores de capas epitaxiales, capas enterradas y capas de difusión.
SJ 2757-1987 Historia
1987SJ 2757-1987 Método de medición por reflexión infrarroja de la concentración de portadores de carga en semiconductores fuertemente dopados.