SJ 20744-1999 (Versión en inglés)

Alcance: Esta norma especifica la terminología, los principios básicos, la instrumentación y el equipo, la preparación de muestras, las condiciones de medición, los procedimientos de medición y el cálculo de los resultados de las mediciones para los métodos de análisis de absorción infrarroja del contenido de impurezas en materiales semiconductores. Esta norma es aplicable al método de análisis infrarrojo de cualquier material semiconductor monocristalino que sea transparente en la región espectral infrarroja y produzca bandas de absorción de impurezas en esta región.

SJ 20744-1999 Historia

1999 SJ 20744-1999 Regla general del análisis espectral de absorción infrarroja para la concentración de impurezas en materiales semiconductores.