DB53/T 421-2012
Determinación de boro en silicio industrial mediante espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente (Versión en inglés)

Estándar No.

DB53/T 421-2012

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

2012

Organización

Yunnan Provincial Standard of the People's Republic of China

Ultima versión

DB53/T 421-2012

Alcance

Esta norma especifica el método para la determinación de boro en silicio industrial mediante espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente. Esta norma es aplicable a la determinación de boro en silicio industrial, con un rango de detección del 0,000 4% al 0,017%.

DB53/T 421-2012 Historia

• 2012 DB53/T 421-2012 Determinación de boro en silicio industrial mediante espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente