Esta norma especifica el método para la determinación de impurezas metálicas y no metálicas en reactivos químicos comunes y reactivos químicos de alta pureza mediante espectrometría de emisión atómica de plasma de alta frecuencia acoplado inductivamente. Esta norma se aplica a la determinación simultánea o secuencial de diversas impurezas en productos reactivos químicos después de la separación de la matriz utilizando un espectrómetro de emisión atómica de plasma de alta frecuencia acoplado inductivamente de baja potencia y un método de muestreo de solución. El rango lineal de la curva de trabajo del análisis espectral puede alcanzar de 5 a 6 órdenes de magnitud, y el límite de detección de la mayoría de los elementos es de 10-8 a 10-9 g/ml. Esta norma no incluye el análisis de inyección directa de muestras ni se aplica a la inyección de muestras sólidas.
GB/T 10725-1989 Historia
1989GB 10725-1989 Reglas generales para la espectrometría de emisión atómica de plasma de alta frecuencia acoplado inductivamente con reactivos químicos